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所属行业: 表面加工 | 产品包装: |
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发布时间: 2023-02-12 | 有 效 期: 长期 |
涂层的目标是获得光滑的表面以生产良好的界面,清洗,运行涂层工艺,PVD涂层工艺包括抽真空-加热-蚀刻-涂层-冷却,其中采用程序软件进行自动控制,要求对基体材料的温度、阴阳极电压参数的变化情况、真空度的变化情况等进行程序软件自动化记录以便于后续的追溯,PVD涂层质量优劣从有关基体温度、气压、沉积速率等参数的变化可以看出一些迹象,根据涂层产品应用环境可以选择进行后处理,以改善表面的光洁度,也可以对产品进行退磁处理,以防止加工铁屑的粘附倾向。
沉积温度在200℃左右形成的涂层,相当脆弱,结合力很差而不**,为了形成牢固的PVD涂层,**使沉积温度在360℃以上,PVD涂层工艺在各个技术领域得到广泛应用,其应用涉及范围从相对简单的材料表面处理,一直到高技术领域,PVD涂层的工艺特点是通过热能或通过粒子轰击来实现金属、合金或化合物高真空环境下的沉积过程,由于一般PVD涂层基体均为高速钢或硬质合金,尤其硬质合金的涂层过程控制要求尤为严格,所以其过程的控制提出了严格要求。
大颗粒密度由无挡板时的2,3x105/mm2降低至1,4x103/mm2,至大颗粒尺寸在2μm以下,而挡板影响区域之外的位置颗粒密度变化不大,但安装挡板后,除沉积速率下降外,PVD涂层的性能也受影响,空心阴极技术,在电弧离子镀沉积PVD涂层时,引入空心阴极发射的电子束,使制备的涂层大颗粒尺寸减小,但此方法要在常规离子镀设备中加装空心阴极装置,利用弯曲弧磁过滤器将大颗粒与等离子体分离,将等离子体引入沉积室的方法,**了较好的效果,但该方法的沉积速率比普通电弧离子镀降低很多。
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